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Thin Film Transistors obtained by Hot-Wire CVD
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
Universitat de Barcelona
Silici
Pel·lícules fines
Transistors
Deposició química en fase vapor
Temperatures baixes
Semiconductors amorfs
Silicon
Thin films
Transistors
Chemical vapor deposition
Low temperatures
Amorphous semiconductors
(c) Elsevier B.V., 2000
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

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Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, DavidSoler, D.; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Dosev, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, M.; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Puigdollers i González, Joaquim; Voz Sánchez, Cristóbal; Orpella, A.; Martín, I.; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón