To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47377

Surface passivation of crystalline silicon by Cat-CVD amorphous and nanocrystalline thin silicon films
Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, M.; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
Cèl·lules solars
Catàlisi
Deposició química en fase vapor
Metal·lúrgia
Silici
Pel·lícules fines
Solar cells
Catalysis
Chemical vapor deposition
Metallurgy
Silicon
Thin films
(c) Elsevier B.V., 2003
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Dosev, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Puigdollers i González, Joaquim; Voz Sánchez, Cristóbal; Orpella, A.; Martín, I.; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Muñoz Ramos, David; Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Alcubilla González, Ramón; Villar, Fernando; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Damon-Lacoste, J.; Roca i Cabarrocas, P. (Pere)
Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, DavidSoler, D.; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
 

Coordination

 

Supporters