To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/98400

Analysis of bias stress on thin-film transistors obtained by Hot-Wire Chemical Vapour Deposition
Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, DavidSoler, D.; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Universitat de Barcelona
Pel·lícules fines
Silici
Estabilitat
Semiconductors
Deposició química en fase vapor
Thin films
Silicon
Stability
Semiconductors
Chemical vapor deposition
(c) Elsevier B.V., 2001
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Alcubilla González, Ramón; Dosev, D.; Pallarés Curto, Jordi; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc)
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Dosev, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, M.; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Puigdollers i González, Joaquim; Voz Sánchez, Cristóbal; Orpella, A.; Martín, I.; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
 

Coordination

 

Supporters