To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47378

Stability of hydrogenated nanocrystalline silicon thin-film transistors
Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Dosev, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Universitat de Barcelona
Pel·lícules fines
Silici
Nanocristalls
Semiconductors
Catàlisi
Deposició química en fase vapor
Thin films
Silicon
Nanocrystals
Semiconductors
Catalysis
Chemical vapor deposition
(c) Elsevier B.V., 2001
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, DavidSoler, D.; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, M.; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Puigdollers i González, Joaquim; Voz Sánchez, Cristóbal; Orpella, A.; Martín, I.; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, A.; Alcubilla González, Ramón; Dosev, D.; Pallarés Curto, Jordi; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc)
 

Coordination

 

Supporters