To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47412

Study of post-deposition contamination in low-temperature deposited polysilicon films
Bertomeu i Balagueró, Joan; Puigdollers i González, Joaquim; Peiró, D.; Cifre, J.; Delgado Nieto, Juan Carlos; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
Hidrogen
Deposició química en fase vapor
Temperatures baixes
Electroquímica
Hydrogen
Chemical vapor deposition
Low temperatures
Electrochemistry
(c) Elsevier B.V., 1996
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Polo Trasancos, Ma. del Carmen; Peiró Martínez, Francisca; Cifre, J.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Puigdollers i González, Joaquim; Andreu i Batallé, Jordi
Cifre, J.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Puigdollers i González, Joaquim; Polo Trasancos, Ma. del Carmen; Andreu i Batallé, Jordi; Lloret, A.
Puigdollers i González, Joaquim; Cifre, J.; Polo Trasancos, Ma. del Carmen; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Lloret, A.
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Alcubilla González, Ramón; Dosev, D.; Pallarés Curto, Jordi; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc)
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
 

Coordination

 

Supporters