To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/61851

Degradation of thin tungsten filaments at high temperature in HWCVD
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bertomeu i Balagueró, Joan
Universitat de Barcelona
Tungstè
Deposició química en fase vapor
Silici
Catàlisi
Pel·lícules fines
Tungsten
Chemical vapor deposition
Silicon
Catalysis
Thin films
(c) Elsevier B.V., 2015
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Antony, Aldrin; Carreras Seguí, Paz; Keitzl, Thomas; Roldán, Rubén; Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Calvo, J. D.; Carreras Seguí, Paz; Roldán, Rubén; Antony, Aldrin; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
 

Coordination

 

Supporters