To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47124

Influence of RF power on the properties of sputtered ZnO:Al thin films
Antony, Aldrin; Carreras Seguí, Paz; Keitzl, Thomas; Roldán, Rubén; Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Universitat de Barcelona
2013-10-18
Òxids metàl·lics
Optoelectrònica
Metall-òxid-semiconductors
Pel·lícules fines
Cèl·lules fotoelèctriques
Metallic oxides
Optoelectronics
Metal oxide semiconductors
Thin films
Photoelectric cells
(c) Wiley-VCH, 2010
info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
Article
info:eu-repo/semantics/submittedVersion
Wiley-VCH
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Calvo, J. D.; Carreras Seguí, Paz; Roldán, Rubén; Antony, Aldrin; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Carreras Seguí, Paz; Antony, Aldrin; Roldán, Rubén; Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Villar, Fernando; Antony, Aldrin; Escarré i Palou, Jordi; Ibarz, D.; Roldán, Rubén; Stella, Marco; Muñoz Ramos, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bengoechea, S.; Frevert, C.; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
 

Coordination

 

Supporters