Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/22068

Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts
Mauricio Ferré, Juan; Moll Echeto, Francisco de Borja; Gómez Fernández, Sergio
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. HIPICS - Grup de Circuits i Sistemes Integrats d'Altes Prestacions
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Circuits integrats
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Components electrònics::Transistors
Lithography distortion
Variability
Fluctuations
Mosfets
Circuits integrats
Integrated circuits
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Artículo
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Mauricio Ferré, Juan; Moll Echeto, Francisco de Borja; Altet Sanahujes, Josep
Cortadella Fortuny, Jordi; Petit Silvestre, Jordi; Gómez Fernández, Sergio; Moll Echeto, Francisco de Borja
Gómez Fernández, Sergio; Moll Echeto, Francisco de Borja
Gómez Fernández, Sergio; Moll Echeto, Francisco de Borja