Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/22068
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
---|---|
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. HIPICS - Grup de Circuits i Sistemes Integrats d'Altes Prestacions |
dc.contributor.author | Mauricio Ferré, Juan |
dc.contributor.author | Moll Echeto, Francisco de Borja |
dc.contributor.author | Gómez Fernández, Sergio |
dc.date | 2014-02-01 |
dc.identifier.citation | Mauricio, J.; Moll, F.; Gomez, S. Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts. "IEEE transactions on electron devices", 01 Febrer 2014, vol. 61, núm. 2, p. 365-371. |
dc.identifier.citation | 0018-9383 |
dc.identifier.citation | 10.1109/TED.2013.2294742 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2117/22068 |
dc.language.iso | eng |
dc.relation | http://ieeexplore.ieee.org/xpl/articleDetails.jsp?arnumber=6691935 |
dc.relation | info:eu-repo/grantAgreement/EC/FP7/248538/EU/SYNthesis using Advanced Process Technology Integrated in regular Cells, IPs, architectures, and design platforms/SYNAPTIC |
dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Circuits integrats |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Components electrònics::Transistors |
dc.subject | Lithography distortion |
dc.subject | Variability |
dc.subject | Fluctuations |
dc.subject | Mosfets |
dc.subject | Circuits integrats |
dc.subject | Integrated circuits |
dc.title | Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts |
dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article |
dc.description.abstract | |
dc.description.abstract |