Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2445/47371

Shutterless deposition of phosphorous doped microcrystalline silicon by Cat-CVD
Fonrodona Turon, Marta; Gordijn, A.; Van Veen, M. K.; Van der Werf, C. H. M.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Schropp, Ruud E. I., 1959-
Universitat de Barcelona
29-10-2013
Silici
Catàlisi
Deposició química en fase vapor
Fòsfor
Cristalls
Cèl·lules solars
Pel·lícules fines
Silicon
Catalysis
Chemical vapor deposition
Phosphorus
Crystals
Solar cells
Thin films
(c) Elsevier B.V., 2003
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Saboundji, A.; Coulon, N.; Mohammed-Brahim, T.
Soler i Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Voz Sánchez, Cristóbal; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Andreu i Batallé, Jordi
Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi