Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/47371

Shutterless deposition of phosphorous doped microcrystalline silicon by Cat-CVD
Fonrodona Turon, Marta; Gordijn, A.; Van Veen, M. K.; Van der Werf, C. H. M.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Schropp, Ruud E. I., 1959-
Universitat de Barcelona
Silici
Catàlisi
Deposició química en fase vapor
Fòsfor
Cristalls
Cèl·lules solars
Pel·lícules fines
Silicon
Catalysis
Chemical vapor deposition
Phosphorus
Crystals
Solar cells
Thin films
(c) Elsevier B.V., 2003
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Voz Sánchez, Cristóbal; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi
Asensi López, José Miguel; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi