Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2445/47155

Amorphous silicon thin film solar cells deposited entirely by Hot-Wire Chemical Vapour Deposition at low temperature (<150 ºC)
Villar, Fernando; Antony, Aldrin; Escarré i Palou, Jordi; Ibarz, D.; Roldán, Rubén; Stella, Marco; Muñoz Ramos, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Universitat de Barcelona
Silici
Cèl·lules solars
Semiconductors amorfs
Deposició química en fase vapor
Temperatures baixes
Silicon
Solar cells
Amorphous semiconductors
Chemical vapor deposition
Low temperatures
(c) Elsevier B.V., 2009
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Villar, Fernando; Escarré i Palou, Jordi; Antony, Aldrin; Stella, Marco; Rojas Tarazona, Fredy E.; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Muñoz, D.; Carreras Seguí, Paz; Escarré i Palou, Jordi; Ibarz, D.; Martín de Nicolás, S.; Voz Sánchez, Cristóbal; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Villar, Fernando; Escarré i Palou, Jordi; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi