Title: | Resonant MEMS pressure sensor in 180 nm CMOS technology obtained by BEOL isotropic etching |
---|---|
Author: | Mata-Hernandez, Diana; Fernández Martínez, Daniel; Banerji, Saoni; Madrenas, Jordi |
Abstract: | |
Subject(s): | -BEOL -CMOS -MEMS -Resonator -Etching -Resonance -Quality factor -Pressure sensor |
Rights: | open access
Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original. https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
Document type: | Article |
Published by: | |
Share: | |
Uri: | https://ddd.uab.cat/record/253029 |