To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/13159

Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography
Domínguez Juárez, Jorge Luis; Macovez, Roberto; Gonzalez, M.U.; Martorell Pena, Jordi
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear; Universitat Politècnica de Catalunya. DONLL - Dinàmica no lineal, òptica no lineal i làsers; Universitat Politècnica de Catalunya. GCM - Grup de Caracterització de Materials
Àrees temàtiques de la UPC::Física::Electromagnetisme
Diffraction gratings
Lithography
Electrons -- Difracció
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Article
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Macovez, Roberto; López, Núria; Mariano, Marina; Maymó Camós, Marc; Martorell Pena, Jordi
Tripathi, Pragya; Gonzalo Ruiz, Javier; Mitsari, Efstratia; Zachariah, Manesh; Romanini, Michela; Tamarit Mur, José Luis; Muñoz Berbel, F. Xavier; Macovez, Roberto
Macovez, Roberto; Zachariah, Manesh; Romanini, Michela; Zygouri, Panagiota; Gournis, Dimitrios; Tamarit Mur, José Luis
 

Coordination

 

Supporters