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Crystalline Silicon surface passivation with amorphous SiCx:H films deposited by Plasma- Enhanced Chemical Vapor Deposition
Martín García, Isidro; Vetter, Michael; Garin Escriva, Moises; Orpella García, Alberto; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Alcubilla González, Ramón
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies
Àrees temàtiques de la UPC::Física::Física de l'estat sòlid::Cristalls
Solid state physics
Thin films
Surface passivation
Lifetime
Física de l'estat sòlid
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Artículo
American Institute of Physics (AIP)
         

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Martín García, Isidro; Vetter, Michael; Orpella García, Alberto; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Alcubilla González, Ramón; Kharchenko, A.V.; Roca i Cabarrocas, Pere
Voz Sánchez, Cristóbal; Martín García, Isidro; Orpella García, Alberto; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, Michael; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona, Marta; Bertomeu Balaguero, Joan; Andreu Batallé, Jordi
Vetter, Michael; Martín García, Isidro; Orpella García, Alberto; Puigdollers i González, Joaquim; Voz Sánchez, Cristóbal; Alcubilla González, Ramón
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