To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/99602

Growth and thermal stability of TiN/ZrAlN: Effect of internal interfaces
Yalamanchili, Kumar; Wang, Fei; Aboulfadl, Hisham; Barrirero, Jenifer; Rogstrom, Lina; Jiménez Piqué, Emilio; Mücklich, F.; Tasnadi, Ferenc; Oden, M; Ghafoor, N
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Ciència dels Materials i Enginyeria Metal·lúrgica; Universitat Politècnica de Catalunya. CIEFMA - Centre d'Integritat Estructural, Micromecànica i Fiabilitat dels Materials
-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials
-Thin films, Multilayered
-Nanostructured materials
-Nanotechnology
-Thermal stability
-TM-Al-N multilayer films
-Nanostructured materials
-Interface energy
-Three-dimensional atom probe (3DAP)
-Transmission electron microscopy
-Materials nanoestructurals
-Nanotecnologia
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Article - Submitted version
Article
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Yalamanchili, Kumar; Jiménez Piqué, Emilio; Pelcastre, L.; Roa Rovira, Joan Josep; Johansson Joesaar, M.P; Prakash, Bhanu; Ghafoor, N; Oden, M
Yalamanchili, K; Schramm, I. C.; Jiménez Piqué, Emilio; Rogstrom, L; Muecklich, F.; Oden, M; Ghafoor, N
Yalamanchili, K; Forsen, R; Jiménez Piqué, Emilio; Johansson Joesaar, M.P; Roa Rovira, Joan Josep; Ghafoor, N; Oden, M
Roa Rovira, Joan Josep; Aboulfadl, Hisham; Barrirero, Jenifer; Turón Viñas, Miquel; Mücklich, Frank; Anglada Gomila, Marcos Juan
El Azhari, Idriss; Barrirero, Jenifer; García, José; Soldera, Flavio; Llanes Pitarch, Luis Miguel; Mücklich, F.
 

Coordination

 

Supporters