Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/26785
Título: | Cosmetotextiles with gallic acid: skin reservoir effect |
---|---|
Autor/a: | Marti Gelabert, Meritxell; Alonso Merino, Cristina; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa |
Otros autores: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Química; Universitat Politècnica de Catalunya. POLQUITEX - Materials Polimérics i Química Téxtil |
Abstract: | |
Materia(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria química::Indústries químiques::Química tèxtil -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria tèxtil ::Teixits::Teixits mèdics -Cotton textiles -Gallic acid -Polyamide fibers -Fibres tèxtils -- Innovacions tecnològiques -Química tèxtil |
Derechos: | Attribution 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/ |
Tipo de documento: | Artículo - Versión publicada Artículo |
Editor: | HINDAWI |
Compartir: |