Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/26785

Cosmetotextiles with gallic acid: skin reservoir effect
Marti Gelabert, Meritxell; Alonso Merino, Cristina; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Química; Universitat Politècnica de Catalunya. POLQUITEX - Materials Polimérics i Química Téxtil
-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria química::Indústries químiques::Química tèxtil
-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria tèxtil ::Teixits::Teixits mèdics
-Cotton textiles
-Gallic acid
-Polyamide fibers
-Fibres tèxtils -- Innovacions tecnològiques
-Química tèxtil
Attribution 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Artículo - Versión publicada
Artículo
HINDAWI
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Marti Gelabert, Meritxell; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; Valldeperas Morell, José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Marti Gelabert, Meritxell; Martínez Rodríguez, Vanessa; Carreras Parera, Núria; Alonso Merino, Cristina; Lis Arias, Manuel José; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Carreras, Nuria; Alonso Merino, Cristina; Marti Gelabert, Meritxell; Lis Arias, Manuel José
Alonso Merino, Cristina; Martí Gelabert, Meritxell; Barba Albanell, Cristina; Lis Arias, Manuel José; Rubio Toledano, Laura; Coderch Negra, Luisa
Alonso Merino, Cristina; Barba Albanell, Cristina; Lis Arias, Manuel José; Rubio Toledano, Laura; Coderch Negra, Luisa; Martí Gelabert, Meritxell