Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/22068

Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts
Mauricio Ferré, Juan; Moll Echeto, Francisco de Borja; Gómez Fernández, Sergio
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. HIPICS - Grup de Circuits i Sistemes Integrats d'Altes Prestacions
-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Circuits integrats
-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Components electrònics::Transistors
-Lithography distortion
-Variability
-Fluctuations
-Mosfets
-Circuits integrats
-Integrated circuits
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Artículo - Versión publicada
Artículo
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Mauricio Ferré, Juan; Moll Echeto, Francisco de Borja; Altet Sanahujes, Josep
García Leyva, Lancelot; Andrade Miceli, Dennis Michael; Gómez Fernández, Sergio; Calomarde Palomino, Antonio; Moll Echeto, Francisco de Borja; Rubio Sola, Jose Antonio
Gómez Fernández, Sergio; Moll Echeto, Francisco de Borja