Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/22068
Título: | Measurements of process variability in 40-nm regular and nonregular layouts |
---|---|
Autor/a: | Mauricio Ferré, Juan; Moll Echeto, Francisco de Borja; Gómez Fernández, Sergio |
Otros autores: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. HIPICS - Grup de Circuits i Sistemes Integrats d'Altes Prestacions |
Abstract: | |
Abstract: | |
Materia(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Circuits integrats -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Components electrònics::Transistors -Lithography distortion -Variability -Fluctuations -Mosfets -Circuits integrats -Integrated circuits |
Derechos: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Tipo de documento: | Artículo - Versión publicada Artículo |
Compartir: |