To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47422

Investigation of defect formation and electronic transport in microcrystalline silicon deposited by hot-wire CVD
Stöger, M.; Breymesser, A.; Schlosser, V.; Ramadori, M.; Plunger, V.; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Nelhiebel, M.; Schattschneider, P.; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
-Silici
-Deposició química en fase vapor
-Microscòpia electrònica de transmissió
-Potenciometria
-Nanotecnologia
-Silicon
-Chemical vapor deposition
-Transmission electron microscopy
-Potentiometry
-Nanotechnology
(c) Elsevier B.V., 1999
Article
Article - Accepted version
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Breymesser, A.; Schlosser, V.; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Summhammer, J.
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Alcubilla González, Ramón; Dosev, D.; Pallarés Curto, Jordi; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc)
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Andreu i Batallé, Jordi
Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Dosev, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Pallarés Curto, Jordi; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón; Peiró, D.
 

Coordination

 

Supporters