Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/13159
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear |
---|---|
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. DONLL - Dinàmica no Lineal, Òptica no Lineal i Làsers |
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. GCM - Grup de Caracterització de Materials |
dc.contributor.author | Domínguez Juárez, Jorge Luis |
dc.contributor.author | Macovez, Roberto |
dc.contributor.author | Gonzalez, M.U. |
dc.contributor.author | Martorell Pena, Jordi |
dc.date | 2010-07 |
dc.identifier.citation | Domínguez, J. [et al.]. Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography. "Applied physics letters", Juliol 2010, vol. 36, núm. 7, p. 1-3. |
dc.identifier.citation | 0003-6951 |
dc.identifier.citation | 10.1063/1.3464161 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2117/13159 |
dc.language.iso | eng |
dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Física::Electromagnetisme |
dc.subject | Diffraction gratings |
dc.subject | Lithography |
dc.subject | Electrons -- Difracció |
dc.title | Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography |
dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article |
dc.description.abstract |