To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/13159

Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography
Domínguez Juárez, Jorge Luis; Macovez, Roberto; Gonzalez, M.U.; Martorell Pena, Jordi
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear; Universitat Politècnica de Catalunya. DONLL - Dinàmica no Lineal, Òptica no Lineal i Làsers; Universitat Politècnica de Catalunya. GCM - Grup de Caracterització de Materials
-Àrees temàtiques de la UPC::Física::Electromagnetisme
-Diffraction gratings
-Lithography
-Electrons -- Difracció
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Article - Published version
Article
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Carvajal, J J; Peña, A; Kumar, R.; Pujol, M. C.; Mateos, X.; Aguiló Díaz, Magdalena; Díaz, F; Vázquez De Aldana, J. R.; Méndez, Carlos Alberto; Moreno, P; Roso, L; Todorov Trifonov, Trifon; Rodríguez Martínez, Ángel; Alcubilla González, Ramón; Král, Z; Ferré Borrull, J.; Pallarès Marzal, Josep; Marsal, L F; Finizio, Sergio Di; Martorell Pena, Jordi; Macovez, Roberto
Macovez, Roberto; López, Núria; Mariano, Marina; Maymó Camós, Marc; Martorell Pena, Jordi
De León Montiel, J. Roberto; Quiroz Juarez, Mario A.; Quintero Torres, Rafael; Domínguez Juárez, Jorge Luis; Moya Cessa, Hector M.; Pérez Torres, Juan; ARAGÓN HERNÁNDEZ, JOSÉ LUÍS
Zachariah, Manesh; Tripathi, Pragya; Mitsari, Efstratia; Romanini, Michela; Zygouri, Panagiota; Gournis, Dimitrios; Barrio Casado, María del; Tamarit Mur, José Luis; Macovez, Roberto
 

Coordination

 

Supporters