Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2099.1/12314

Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD;
Deposition and characterization of Teflon layers over Silicon to develop EWOD devices
Hernandez Coarasa, Antonio
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Bermejo Broto, Sandra
Català: Estudi de diferents mètodes de dipòsit de tefló i el seu efecte sobre la funcionabilitat final d'un sistema basat en la tecnologia EWOD
Castellano: Estudio de diversos métodos de deposición del Teflón y su efecto sobre la funcionalidad final de un sistema basado en la tecnología EWOD
English: Study of various methods of deposition of Teflon and its effect on the final functionality of a system based on EWOD technology
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials::Materials compostos
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Electrònica molecular
Nanostructure materials
Teflon
EWOD
Electrowetting
Teflón
EWOD
Electrowetting
Electrònica
Enginyeria electrònica
Interferometria
Microelectrònica
Nanoestructures -- Propietats òptiques
Silici
Sistemes electrònics
Sistemes òptics
Materials nanoestructurals
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
Universitat Politècnica de Catalunya
         

Mostrar el registro completo del ítem