Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD

All of RECERCAT

To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/12314

Title:	Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD; Deposition and characterization of Teflon layers over Silicon to develop EWOD devices
Author:	Hernandez Coarasa, Antonio
Other authors:	Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Bermejo Broto, Sandra
Abstract:	Català: Estudi de diferents mètodes de dipòsit de tefló i el seu efecte sobre la funcionabilitat final d'un sistema basat en la tecnologia EWOD
Abstract:	Castellano: Estudio de diversos métodos de deposición del Teflón y su efecto sobre la funcionalidad final de un sistema basado en la tecnología EWOD
Abstract:	English: Study of various methods of deposition of Teflon and its effect on the final functionality of a system based on EWOD technology
Subject(s):	-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials::Materials compostos -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Electrònica molecular -Nanostructure materials -Teflon -EWOD -Electrowetting -Teflón -EWOD -Electrowetting -Electrònica -Enginyeria electrònica -Interferometria -Microelectrònica -Nanoestructures -- Propietats òptiques -Silici -Sistemes electrònics -Sistemes òptics -Materials nanoestructurals
Rights:	Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Document type:	Bachelor Thesis
Published by:	Universitat Politècnica de Catalunya
Share:

Coordination

Supporters