Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/9522

Growth rate of fractal copper electrodeposits: Potential and concentration effects
Costa, J. M.; Sagués i Mestre, Francesc; Vilarrasa, M.
Universitat de Barcelona
04-05-2010
Electroquímica
Deposició (Metal·lúrgia)
Electrochemistry
Plating
(c) The American Physical Society, 1991
Article
The American Physical Society
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Alados Arboledas, Lucas; Guerrero Rascado, Juan Luis; Olmo, F.J.; Molero, Francisco; Navas Guzmán, Francisco; Costa, J. M.; Silva, A.M.; Pujadas, Manuel; Sicard, Michaël
Sagués i Mestre, Francesc; Sancho, José M.; García Ojalvo, Jordi
Brugués, Jan; Ignés i Mullol, Jordi; Casademunt i Viader, Jaume; Sagués i Mestre, Francesc
Lacasta Palacio, Ana María; Sancho, José M.; Sagués i Mestre, Francesc
Armero Rovira, Juan; Sancho, José M.; Casademunt i Viader, Jaume; Lacasta Palacio, Ana María; Ramírez Piscina, Laureano; Sagués i Mestre, Francesc