To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/84495
Title: | Variación de la frecuencia de trabajo en un cristal fotónico basado en silicio macroporoso al variar la longitud del defecto |
---|---|
Author: | Cardador, D.; Vega Bru, Didac; Rodríguez Martínez, Ángel |
Other authors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies |
Abstract: | |
Abstract: | |
Subject(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria de la telecomunicació::Telecomunicació òptica::Fotònica -Photonics -Cristal fotónico -Silicio macroporoso -Defecto -Banda prohibida -Fotònica |
Rights: | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Document type: | Article - Published version Conference Object |
Share: |