To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/26785
Title: | Cosmetotextiles with gallic acid: skin reservoir effect |
---|---|
Author: | Marti Gelabert, Meritxell; Alonso Merino, Cristina; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa |
Other authors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Química; Universitat Politècnica de Catalunya. POLQUITEX - Materials Polimérics i Química Téxtil |
Abstract: | |
Subject(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria química::Indústries químiques::Química tèxtil -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria tèxtil ::Teixits::Teixits mèdics -Cotton textiles -Gallic acid -Polyamide fibers -Fibres tèxtils -- Innovacions tecnològiques -Química tèxtil |
Rights: | Attribution 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/ |
Document type: | Article - Published version Article |
Published by: | HINDAWI |
Share: |