To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/26785

Cosmetotextiles with gallic acid: skin reservoir effect
Marti Gelabert, Meritxell; Alonso Merino, Cristina; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Química; Universitat Politècnica de Catalunya. POLQUITEX - Materials Polimérics i Química Téxtil
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria química::Indústries químiques::Química tèxtil
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria tèxtil ::Teixits::Teixits mèdics
Cotton textiles
Gallic acid
Polyamide fibers
Fibres tèxtils -- Innovacions tecnològiques
Química tèxtil
Attribution 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Article
HINDAWI
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Marti Gelabert, Meritxell; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; Valldeperas Morell, José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Marti Gelabert, Meritxell; Martínez Rodríguez, Vanessa; Carreras Parera, Núria; Alonso Merino, Cristina; Lis Arias, Manuel José; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa
Alonso Merino, Cristina; Martí Gelabert, Meritxell; Barba Albanell, Cristina; Lis Arias, Manuel José; Rubio Toledano, Laura; Coderch Negra, Luisa
Carreras, Nuria; Alonso Merino, Cristina; Marti Gelabert, Meritxell; Lis Arias, Manuel José
Martí, Meritxell; Alonso, Cristina; Martínez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra, José Luis; Coderch, Luisa
 

Coordination

 

Supporters