To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/23051

Etching techniques for thinning silicon wafers for ultra thin high efficiency IBC solar cells;
Técnicas de grabado para el adelgazamiento de obleas de silicio para células solares IBC ultra delgado de alta eficiencia;
Tècniques de gravat per l'aprimament d'hòsties de silici per cèl·lules solars IBC ultra prim d'alta eficiència
Afa, Iduabo John
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear; Ortega Villasclaras, Pablo Rafael; Alcubilla González, Ramón
Àrees temàtiques de la UPC::Energies::Energia solar fotovoltaica::Cèl·lules solars
Photolithography
Solar cells
IBC solar cells
Masked Etching
Reactive-ion etch
TMAH Etching
Células solares IBC
Grabado enmascarado
Grabado con iones reactivos
TMAH Grabado
Fotolitografia
Cèl·lules solars
S'autoritza la difusió de l'obra mitjançant la llicència Creative Commons o similar 'Reconeixement-NoComercial- SenseObraDerivada'
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/masterThesis
Universitat Politècnica de Catalunya
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Serrat Jurado, Carles; Corbera Subirana, Montserrat; Afa, Iduabo John
 

Coordination

 

Supporters