Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/10256/8574

Comment on “Dynamics of thermal growth of silicon oxide films on Si”
Roura Grabulosa, Pere; Farjas Silva, Jordi
12-11-2013
Silici -- Oxidació
Silicon -- Oxidation
Tots els drets reservats
Article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
American Physical Society
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Roura Grabulosa, Pere; Farjas Silva, Jordi; Rath, Chandana; Serra-Miralles, J.; Bertrán Serra, Enric; Roca i Cabarrocas, P. (Pere)
Rath, Chandana; Farjas Silva, Jordi; Roura Grabulosa, Pere; Kail, F.; Roca i Cabarrocas, P. (Pere); Bertrán Serra, Enric
Farjas Silva, Jordi; Serra-Miralles, J.; Roura Grabulosa, Pere; Bertrán Serra, Enric; Roca i Cabarrocas, P. (Pere)
Farjas Silva, Jordi; Das, D.; Fort, J.; Roura Grabulosa, Pere; Bertrán Serra, Enric