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Structure of a-Si:H/a-Si1-xCx:H multilayers deposited in a reactor with automated substrate holder
Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Puigdollers i González, Joaquim; Andreu i Batallé, Jordi; Morenza Gil, José Luis
Universitat de Barcelona
Silici
Semiconductors amorfs
Cèl·lules solars
Pel·lícules fines
Transistors
Nanotecnologia
Deposició química en fase vapor
Silicon
Amorphous semiconductors
Solar cells
Thin films
Transistors
Nanotechnology
Chemical vapor deposition
(c) Elsevier Ltd, 1993
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier Ltd
         

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Orpella, A.; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Dosev, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Soler i Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Voz Sánchez, Cristóbal; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi