To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/47424

Top-gate microcrystalline silicon TFTs processed at low temperature (<200ºC)
Saboundji, A.; Coulon, N.; Gorin, A.; Lhermite, H.; Mohammed-Brahim, T.; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
Transistors
Semiconductors
Silici
Temperatures baixes
Transistors
Semiconductors
Silicon
Low temperatures
(c) Elsevier B.V., 2005
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Saboundji, A.; Coulon, N.; Mohammed-Brahim, T.
Fonrodona Turon, Marta; Gordijn, A.; Van Veen, M. K.; Van der Werf, C. H. M.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Schropp, Ruud E. I., 1959-
Soler i Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Voz Sánchez, Cristóbal; Martin, I.; Orpella, A.; Puigdollers i González, Joaquim; Vetter, M.; Alcubilla González, Ramón; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
 

Coordination

 

Supporters