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Optimisation of doped microcrystalline silicon films deposited at very low temperatures by Hot-Wire CVD
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
Silici
Deposició química en fase vapor
Temperatures baixes
Propietats elèctriques
Pel·lícules fines
Energia solar
Transistors
Bor
Fòsfor
Silicon
Chemical vapor deposition
Low temperatures
Electric properties
Thin films
Solar energy
Transistors
Boron
Phosphorus
(c) Elsevier B.V., 2000
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

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