Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/47380

Thin silicon films ranging from amorphous to nanocrystalline obtained by Hot-Wire CVD
Soler i Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
Silici
Pel·lícules fines
Nanocristalls
Deposició en fase de vapor
Cèl·lules solars
Silicon
Thin films
Nanocrystals
Vapor-plating
Solar cells
(c) Elsevier B.V., 2001
Article
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Soler i Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Voz Sánchez, Cristóbal; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Soler i Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Dosev, D.; Puigdollers i González, Joaquim; Orpella, Albert; Voz Sánchez, Cristóbal; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc); Pallarés Curto, Jordi; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Alcubilla González, Ramón
Voz Sánchez, Cristóbal; Soler Vilamitjana, David; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Asensi López, José Miguel; Andreu i Batallé, Jordi
Voz Sánchez, Cristóbal; Peiró, D.; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi