Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2445/47298

Low temperature amorphous and nanocrystalline silicon thin film transistors deposited by Hot-Wire CVD on glass substrate
Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi; Saboundji, A.; Coulon, N.; Mohammed-Brahim, T.
Universitat de Barcelona
25-10-2013
Transistors
Pel·lícules fines
Silici
Nanocristalls
Deposició química en fase vapor
Transistors
Thin films
Silicon
Nanocrystals
Chemical vapor deposition
(c) Elsevier B.V., 2006
Artículo
info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Elsevier B.V.
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Saboundji, A.; Coulon, N.; Gorin, A.; Lhermite, H.; Mohammed-Brahim, T.; Fonrodona Turon, Marta; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Escarré i Palou, Jordi; Villar, Fernando; Soler Vilamitjana, David; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Villar, Fernando; Escarré i Palou, Jordi; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi
Fonrodona Turon, Marta; Soler Vilamitjana, David; Escarré i Palou, Jordi; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan; Andreu i Batallé, Jordi