Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/47153
dc.contributor | Universitat de Barcelona |
---|---|
dc.contributor.author | Nos Aguilà, Oriol |
dc.contributor.author | Frigeri, Paolo Antonio |
dc.contributor.author | Bertomeu i Balagueró, Joan |
dc.date | 2013-10-18T11:00:02Z |
dc.date | 2013-10-18T11:00:02Z |
dc.date | 2011 |
dc.date | 2013-10-18T11:00:03Z |
dc.identifier.citation | 0040-6090 |
dc.identifier.citation | 585370 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2445/47153 |
dc.format | 16 p. |
dc.format | application/pdf |
dc.language.iso | eng |
dc.publisher | Elsevier B.V. |
dc.relation | Versió postprint del document publicat a: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.01.296 |
dc.relation | Thin Solid Films, 2011, vol. 519, num. 14, p. 4531-4534 |
dc.relation | http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.01.296 |
dc.rights | (c) Elsevier B.V., 2011 |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
dc.subject | Nanoestructures |
dc.subject | Deposició química en fase vapor |
dc.subject | Espectroscòpia d'infraroigs per transformada de Fourier |
dc.subject | Oxidació |
dc.subject | Cèl·lules solars |
dc.subject | Pel·lícules fines |
dc.subject | Optoelectrònica |
dc.subject | Nanostructures |
dc.subject | Chemical vapor deposition |
dc.subject | Fourier transform infrared spectroscopy |
dc.subject | Oxidation |
dc.subject | Solar cells |
dc.subject | Thin films |
dc.subject | Optoelectronics |
dc.title | Hot wire configuration for depositing device grade nano-crystalline silicon at high deposition rate |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article |
dc.type | info:eu-repo/semantics/acceptedVersion |
dc.description.abstract |