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Boron diffused emitters passivated with Al2O3 films
Masmitja Rusinyol, Gerard; Ortega Villasclaras, Pablo Rafael; López Rodríguez, Gema; Calle Martín, Eric; García Molina, Francisco Miguel; Martín García, Isidro; Orpella García, Alberto; Voz Sánchez, Cristóbal; Alcubilla González, Ramón
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Instrumentació i mesura::Sensors i actuadors
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria de la telecomunicació::Telecomunicació òptica::Fotònica
Boron
Silicones
Boron
Atomic layer deposition
Electron devices
Passivation
Silicon
Silicon wafers
Solar cells
Bor
Silicones
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
         

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Colina Brito, Mónica Alejandra; Martín García, Isidro; Voz Sánchez, Cristóbal; Morales Vilches, Ana Belén; Ortega Villasclaras, Pablo Rafael; López Rodríguez, Gema; García Molina, Francisco Miguel; Alcubilla González, Ramón
Colina Brito, Mónica Alejandra; Martín García, Isidro; Voz Sánchez, Cristóbal; Morales Vilches, Ana Belén; Ortega Villasclaras, Pablo Rafael; López, Gema; García Molina, Francisco Miguel; Orpella García, Alberto; Muñoz Martín, D.; Sánchez Aniorte, M. Isabel; Molpeceres Alvarez, Carlos; Alcubilla González, Ramón
 

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