Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/7803

Localization and Electrical Characterization of Interconnect Open Defects
Rodríguez Montañés, Rosa; Arumi Delgado, Daniel; Figueras Pàmies, Joan; Beverloo, Willem; Vries, Dirk K. de; Eichenberger, Stefan; Volf, Paul A. J.
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Disseny i Programació de Sistemes Electrònics; Universitat Politècnica de Catalunya. QINE - Disseny de Baix Consum, Test, Verificació i Tolerància a Fallades
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Circuits electrònics
Integrated circuits
Metal oxide semiconductors, Complementary
Circuits integrats
Metall òxid semiconductors complementaris
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Artículo
         

Mostrar el registro completo del ítem

Documentos relacionados

Otros documentos del mismo autor/a

Rodríguez Montañés, Rosa; Arumi Delgado, Daniel; Figueras Pàmies, Joan; Eichenberger, Stefan; Hora, Camelia; Kruseman, Bram; Lousberg, M.; Majhi, A.K.
Arumi Delgado, Daniel; Rodríguez Montañés, Rosa; Figueras Pàmies, Joan; Eichenberger, Stefan; Hora, Camelia; Kruseman, Bram
Arumi Delgado, Daniel; Rodríguez Montañés, Rosa; Figueras Pàmies, Joan; Eichenberger, Stefan; Hora, C.; Kruseman, Bram
Arumi Delgado, Daniel; Rodríguez Montañés, Rosa; Figueras Pàmies, Joan
Rodríguez Montañés, Rosa; Arumi Delgado, Daniel; Figueras Pàmies, Joan; Eichenberger, S.; Hora, Camelia; Kruseman, B.