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Improvement of crystalline silicon surface passivation by hidrogen plasma treatment
Martín García, Isidro; Vetter, Michael; Orpella García, Alberto; Voz Sánchez, Cristóbal; Puigdollers i González, Joaquim; Alcubilla González, Ramón; Kharchenko, A.V.; Roca i Cabarrocas, Pere
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica
Microelectronics.
Silicon.
Crystalline silicon surface passivation
Dry low-temperature process
Effective lifetime
Elemental semiconductors
Etching
Hydrogen plasma treatment
Hydrogenated amorphous silicon carbide
p-type crystalline silicon surface
Passivation
Plasma materials processing
Quasisteady state photoconductance
Silicon compounds
Wide band gap semiconductors
Silici
Microelectrònica
Artículo
American Institute of Physics
         

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