Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/24984

Computer-aided procedure for optimization of layer thickness uniformity in thermal evaporation physical vapor deposition chambers for lens coating
Bosch i Puig, Salvador
Universitat de Barcelona
Disseny assistit per ordinador
Pel·lícules fines
Filtres òptics
Lents
Computer-aided design
Thin films
Light filters
Lenses
(c) American Institute of Physics, 1992
Article
American Institute of Physics
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Carcolé i Carrubé, Eduard; Bosch i Puig, Salvador; Campos Coloma, Juan
Vallmitjana i Rico, Santiago; Bosch i Puig, Salvador; Juvells Prades, Ignacio; Ros Puig, Domènec
Wolf, T.; Gutmann, B.; Weber, H.; Ferré Borrull, Josep; Bosch i Puig, Salvador; Vallmitjana i Rico, Santiago
Ristau, Detlev; Günster, Stefan; Bosch i Puig, Salvador; Duparré, Angela; Masetti, Enrico; Ferré Borrull, Josep; Kiriakidis, George; Peiró Martínez, Francisca; Quesnel, Etienne; Tihhonravov, Alexander