Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/24743

Nanometer-scale oxidation of Si(100) surfaces by tapping mode atomic force microscopy
Pérez Murano, Francesc; Abadal, G.; Barniol i Beumala, Núria; Aymerich Humet, Xavier; Servat, J.; Gorostiza Langa, Pablo Ignacio; Sanz Carrasco, Fausto
Universitat de Barcelona
02-05-2012
Microscòpia de força atòmica
Silici
Nanoelectrònica
Detectors
camps elèctrics
Atomic force microscopy
Silicon
Nanoelectronics
Detectors
Electric fields
(c) American Institute of Physics, 1995
Article
American Institute of Physics
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Caro, J.; Fraxedas i Calduch, Jordi; Gorostiza Langa, Pablo Ignacio; Sanz Carrasco, Fausto
Porti i Pujal, Marc; Avidano, M.; Nafría i Maqueda, Montserrat; Aymerich Humet, Xavier; Carreras, Josep; Garrido Fernández, Blas
Martín Martínez, Javier; Diaz, Javier; Rodríguez, Rosana; Nafria, Montse; Aymerich Humet, Xavier; Roca Moreno, Elisenda; Fernández Fernández, Francisco V.; Rubio Sola, Jose Antonio
Hoyo Pérez, Javier; Guaus Guerrero, Ester; Oncins, Gerard; Torrent Burgués, Juan; Sanz Carrasco, Fausto