To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/12314
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
---|---|
dc.contributor | Bermejo Broto, Sandra |
dc.contributor.author | Hernandez Coarasa, Antonio |
dc.date | 2011-06-14 |
dc.identifier.citation | ETSETB-230.76644 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2099.1/12314 |
dc.language.iso | spa |
dc.publisher | Universitat Politècnica de Catalunya |
dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
dc.rights | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials::Materials compostos |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Electrònica molecular |
dc.subject | Nanostructure materials |
dc.subject | Teflon |
dc.subject | EWOD |
dc.subject | Electrowetting |
dc.subject | Teflón |
dc.subject | EWOD |
dc.subject | Electrowetting |
dc.subject | Electrònica |
dc.subject | Enginyeria electrònica |
dc.subject | Interferometria |
dc.subject | Microelectrònica |
dc.subject | Nanoestructures -- Propietats òptiques |
dc.subject | Silici |
dc.subject | Sistemes electrònics |
dc.subject | Sistemes òptics |
dc.subject | Materials nanoestructurals |
dc.title | Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD |
dc.title | Deposition and characterization of Teflon layers over Silicon to develop EWOD devices |
dc.type | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis |
dc.description.abstract | |
dc.description.abstract | |
dc.description.abstract |