To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/12314
Title: |
Depósito y caracterización de capas de Teflón sobre Silicio para la realización de dispositivos EWOD; Deposition and characterization of Teflon layers over Silicon to develop EWOD devices |
---|---|
Author: | Hernandez Coarasa, Antonio |
Other authors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Bermejo Broto, Sandra |
Abstract: | |
Abstract: | |
Abstract: | |
Subject(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials::Materials compostos -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Microelectrònica::Electrònica molecular -Nanostructure materials -Teflon -EWOD -Electrowetting -Teflón -EWOD -Electrowetting -Electrònica -Enginyeria electrònica -Interferometria -Microelectrònica -Nanoestructures -- Propietats òptiques -Silici -Sistemes electrònics -Sistemes òptics -Materials nanoestructurals |
Rights: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Document type: | Bachelor Thesis |
Published by: | Universitat Politècnica de Catalunya |
Share: |