To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/10424
| Title: | Evaluación de las variaciones de proceso litográficas en circuitos integrados |
|---|---|
| Author: | Bosacoma Sesma, Alex |
| Other authors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Moll Echeto, Francisco de Borja |
| Abstract: | |
| Subject(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Circuits electrònics -Integrated circuits -Proximity effect -Coma effect -Lens aberration -Flare -Circuits integrats |
| Rights: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
| Document type: | Bachelor Thesis |
| Published by: | Universitat Politècnica de Catalunya |
| Share: |
|