To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2099.1/10424

Evaluación de las variaciones de proceso litográficas en circuitos integrados
Bosacoma Sesma, Alex
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Moll Echeto, Francisco de Borja
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Circuits electrònics
Integrated circuits
Proximity effect
Coma effect
Lens aberration
Flare
Circuits integrats
Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
Universitat Politècnica de Catalunya
         

Show full item record

 

Coordination

 

Supporters