Fabricacion y caracterizacion de guias opticas integradas sobre sustratos de silicio

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Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/84974

Título:	Fabricacion y caracterizacion de guias opticas integradas sobre sustratos de silicio
Autor/a:	Torner Sabata, Lluís; Alcubilla González, Ramón; Calderer Cardona, Josep
Otros autores:	Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Teoria del Senyal i Comunicacions; Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. FOTONICA - Grup de Recerca de Fotònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies
Abstract:	Silicon nitride (Si 3 N4 ) planar optical waveguides have been successfully grown by lowpressure chemical vapor deposition (LPCVD). Silicon p-type wafers with a (100) orientation were used as substrates, and the Si3 N4 was separated from the lossy Si substrate by a thermally grown SiO2 thin film.
Abstract:	Peer Reviewed
Materia(s):	-Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria de la telecomunicació -Silicon -Silici
Derechos:	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/
Tipo de documento:	Artículo - Versión publicada Objeto de conferencia
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