Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/99602
Título: | Growth and thermal stability of TiN/ZrAlN: Effect of internal interfaces |
---|---|
Autor/a: | Yalamanchili, Kumar; Wang, Fei; Aboulfadl, Hisham; Barrirero, Jenifer; Rogstrom, Lina; Jiménez Piqué, Emilio; Mücklich, F.; Tasnadi, Ferenc; Oden, M; Ghafoor, N |
Otros autores: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Ciència dels Materials i Enginyeria Metal·lúrgica; Universitat Politècnica de Catalunya. CIEFMA - Centre d'Integritat Estructural, Micromecànica i Fiabilitat dels Materials |
Abstract: | |
Abstract: | |
Materia(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials -Thin films, Multilayered -Nanostructured materials -Nanotechnology -Thermal stability -TM-Al-N multilayer films -Nanostructured materials -Interface energy -Three-dimensional atom probe (3DAP) -Transmission electron microscopy -Materials nanoestructurals -Nanotecnologia |
Derechos: | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Tipo de documento: | Artículo - Versión presentada Artículo |
Compartir: |