To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2445/61851

Degradation of thin tungsten filaments at high temperature in HWCVD
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bertomeu i Balagueró, Joan
Universitat de Barcelona
-Tungstè
-Deposició química en fase vapor
-Silici
-Catàlisi
-Pel·lícules fines
-Tungsten
-Chemical vapor deposition
-Silicon
-Catalysis
-Thin films
(c) Elsevier B.V., 2015
Article
Article - Accepted version
Elsevier B.V.
         

Show full item record

Related documents

Other documents of the same author

Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bengoechea, S.; Frevert, C.; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
Antony, Aldrin; Carreras Seguí, Paz; Keitzl, Thomas; Roldán, Rubén; Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
 

Coordination

 

Supporters