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Investigation of defect formation and electronic transport in microcrystalline silicon deposited by hot-wire CVD
Stöger, M.; Breymesser, A.; Schlosser, V.; Ramadori, M.; Plunger, V.; Peiró, D.; Voz Sánchez, Cristóbal; Bertomeu i Balagueró, Joan; Nelhiebel, M.; Schattschneider, P.; Andreu i Batallé, Jordi
Universitat de Barcelona
-Silici
-Deposició química en fase vapor
-Microscòpia electrònica de transmissió
-Potenciometria
-Nanotecnologia
-Silicon
-Chemical vapor deposition
-Transmission electron microscopy
-Potentiometry
-Nanotechnology
(c) Elsevier B.V., 1999
Artículo
Artículo - Versión aceptada
Elsevier B.V.
         

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