To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/13159
Title: | Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography |
---|---|
Author: | Domínguez Juárez, Jorge Luis; Macovez, Roberto; Gonzalez, M.U.; Martorell Pena, Jordi |
Other authors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear; Universitat Politècnica de Catalunya. DONLL - Dinàmica no Lineal, Òptica no Lineal i Làsers; Universitat Politècnica de Catalunya. GCM - Grup de Caracterització de Materials |
Abstract: | |
Subject(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Física::Electromagnetisme -Diffraction gratings -Lithography -Electrons -- Difracció |
Rights: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Document type: | Article - Published version Article |
Share: |